每日复习 — 2026-05-01

自动生成 | 3 道复习题 + 2 个核心要点 | 来自 20 页知识中心


复习题

1. 如何从手册 E_on/E_off 外推到实际工况?

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来自 MOSFET 技术

E_on,actual = E_on,datasheet × (V_CC/V_CC,test) × (I_C/I_C,test) × f(T_j, R_G)。四个缩放因子:(1) V_CC 线性(母线翻倍,损耗翻倍);(2) I_C 近似线性(电流翻倍,重叠区翻倍);(3) f(T_j) —— MOSFET 从 25°C 到 150°C 约 +2040%,IGBT 约 +50100%;(4) f(R_G) 近似线性,但 R_G,int 不能忽略,必须按 (R_G,ext+R_G,int)/(R_G,test+R_G,int) 修正。SiC 的 R_G,int 可达 5~10 Ω。


2. 为什么 Bessel 滤波器对时域波形保真?

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来自 运算放大器与模拟设计

Bessel 滤波器的特点是线性相位——所有频率分量被延迟相同的时间(恒定群延迟),时域波形形状不变只是整体延后。方波由无穷多正弦分量组成,Butterworth 等滤波器对不同频率延迟不同 → 各分量在时间上错开 → 方波上升沿出现过冲和振铃;Bessel 对所有频率延迟相同 → 方波只是圆滑了一点,没有过冲。选 Bessel 的典型场景:采集方波或脉冲信号、数字通信接收端(保持眼图清晰)、音频瞬态保真。代价:过渡带比 Butterworth 缓慢,陡截止要求下不如 Chebyshev。选择标准:更在乎频域(Butterworth/Chebyshev)还是时域(Bessel)。


3. 三段式驱动为什么能兼顾速度和 EMI

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来自 栅极驱动(Gate Driver)

单一 R_G 的矛盾:小 R_G 快(损耗低)但过冲和 EMI 大;大 R_G 反。三段式把关断分三阶段用不同 R_G:阶段1(V_GS 从高降到 Miller 平台,V_DS 未动)用小 R_G 快快快;阶段2(Miller 平台 + V_DS 上升段,dv/dt 主战场)用大 R_G 压 EMI;阶段3(I_D 下降段)用中等 R_G。典型 SiC 实测:固定 10Ω 的 dv/dt 25 kV/μs 过冲 250V;三段式 5/47/10Ω 的 dv/dt 8 kV/μs 过冲 95V,E_off 只增 50%。


核心要点速览

ADC 与混合信号设计ADC 的三难困境是什么?四大架构如何分配?

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速度 × 精度 × 功耗——任何架构都必须牺牲其中一个。SAR(逐次逼近):中速(0.15 MSPS)、中高精度(1218 bit)、低功耗,适合传感器和多通道低速高精度。Σ-Δ(Sigma-Delta):慢(< 1 MSPS)、极高精度(1624 bit,靠过采样 + 噪声整形绕开电容匹配限制)、中功耗,适合音频、称重、精密仪器。Pipeline(流水线):高速(10500 MSPS)、中精度(1016 bit)、高功耗,适合通信、雷达。Flash(全并行):极快(> 1 GSPS)、低精度(68 bit,需要 2^n 个比较器)、极高功耗,只用于超高速雷达和 RF。没有全面最优的 ADC。


MOSFET 技术 — Spirito 效应是什么?为什么 MOSFET 线性应用比导通区更危险?

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Spirito 效应:在高 V_DS + 中等 I_D 的线性区,V_th 的负温度系数主导,温度反馈方向反转。芯片某处略微过热 → V_th 降低 → 同样 V_GS 下该处电流增大 → P=V_DS·I 增大 → 温度继续升高 → 正反馈热集中 → 热失控。与导通区 R_DS(on) 正温系数(电流自动均衡)相反,线性区是发散的。这就是为什么多个 MOSFET 并联做开关完全安全,并联做线性应用必须专门均流。